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氧電漿蝕刻
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利用大氣電漿束蝕刻PI膜之研究
本實驗中以氦氣混合少量氧氣,使用頻率為13.56MHz射頻所激發的大氣電漿束能夠有效的對聚亞醯胺薄膜造成蝕刻,並以改變氦氣以及氧氣流量控制其蝕刻速率,且經過分析反應 ...
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「氧電漿蝕刻」
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