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新世代記憶體的蝕刻挑戰與解決方案 - 電子工程專輯

因此，不管在任何壓力之下，暴露於氧氣的製程容許範圍僅有幾分鐘。 ... 電漿ALE是非等向性的，這是蝕刻高深寬比特徵所必需的；而熱ALE可透過使用連續 ...

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