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105100006.xml

一種在電漿蝕刻設備中非等向性地蝕刻半導體基板上之含鎢材料的方法，該方法包含 ... 自該電漿蝕刻製程腔室移除；(d)將包含氧自由基來源之第二製程氣體導入至該電漿蝕刻 ...

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