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氧電漿蝕刻
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Cf4 plasma - 四氟化碳電漿 - 政府研究資訊系統GRB
關鍵字:電漿浸沒離子注入;四氟化碳電漿;氧電漿;電漿損傷;二氧化鉿;三氧化二釤; ... 對於玻璃基板之高速粗糙化乾蝕刻製程發展,將採用CF4、CHF3、O2及Ar等為反應 ...
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