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氧電漿蝕刻
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行政院國家科學委員會專題研究計畫期中進度報告 - 國立成功 ...
漸的增大,因此用於乾式蝕刻(Dry etching)以及電漿輔助氣相沉積(Plasma-assisted ... 使用光阻去除作為機台確效的評量可發現使用氧電漿作為氣體源,其清除.
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