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半導體廠氫氟廢水CaCl2 加藥模式建立及減量之應用

目前半導體及光電廠廣泛使用氫氟酸(HF)作. 為濕式蝕刻之化學藥劑，其所排放HF 廢水除了濃. 度較高可委外回收再利用外，其他必須排放至廢水.

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