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最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)

以氟化銨來緩. 衝氫氟酸，該被緩衝的氫氟酸能提供一個可減緩且穩定蝕刻又絲毫不侵蝕光阻而可良好控制之. 蝕刻溶液。

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