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步進式曝光機
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全球光刻機發展概況以及半導體裝備國產化- 萬維論壇
目前光刻技術的發展方向主要表現為縮短曝光光源波長、提高數值 ... 1986年推出首臺步進式設備PAS2500/10,並和鏡頭制造商Carl Zeiss建立密切合作關系 ...
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