已完成國內首部步進式曝光機原型,達成RDL 2/2 µm 與TSV 直徑6.5 µm 製程(深寬比10:1)。並建構關鍵模組小批量生產資料庫(論文、專利與技術報告),供應技術保存與本土 ...
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