你即將離開本站

並前往https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202007171392256756_1.pdf?1594995050000.pdf

摘取光刻机皇冠上的明珠——ASML

➢ 光刻机经历了5代产品发展，光源波长从436nm缩小到13.5nm；目前主流的曝光方式是. 步进扫描式。 □ 全球光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本尼康（Nikon） ...

確定！ 回上一頁

查詢 「步進式曝光機」的人也找了：

  1. 步進式曝光機原理
    2.
  2. stepper scanner差異
    3.
  3. 曝光機種類
    4.
  4. 曝光機asml
    5.
  5. 步進式曝光機掃描式曝光機
    6.
  6. 浸潤式曝光原理
    7.
  7. 掃描式曝光機原理
    8.
  8. aligner曝光機
    9.