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步進式曝光機
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https://technews.tw/2020/10/22/asml-mask-aligner/
Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀ASML 超越?
之後,半導體光刻機的模組化設計成為模組化革命的關鍵,加上同時可進行2 片晶圓的掃描曝光技術及液浸式曝光提高精度的技術,都成為關鍵課題。
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