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上海微電子28nm光刻機明年交付！意義何在？ - 新聞

光刻設備從光源（從最初的g-Line, i-Line 髮展到EUV）、曝光方式（從接觸式到步進式，從榦式投影到浸沒式投影）不斷進行著改進。 芯片尺寸的縮小以及性能 ...

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