你即將離開本站

並前往https://www.opticsjournal.net/Articles/OJ9901b2222ede53e9/FullText

步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展

步进 扫描投影式曝光技术可以增大曝光视场，大幅提高芯片制造的产率，是目前使用最广泛的光刻技术。 光刻机的分辨率（R）与投影物镜数值孔径（NA）、 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「步進式曝光機」的人也找了：

  1. 步進式曝光機原理
    2.
  2. stepper scanner差異
    3.
  3. 曝光機種類
    4.
  4. 曝光機asml
    5.
  5. 步進式曝光機掃描式曝光機
    6.
  6. 浸潤式曝光原理
    7.
  7. 掃描式曝光機原理
    8.
  8. aligner曝光機
    9.