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步進式曝光機原理
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EUV光刻,最終勝出!_新聞時刻
GCA也迅速推出第一臺步進光刻機,與前者展开正面博弈。 ... 爲了延續摩爾定律,光刻技術就需要每兩年把曝光關鍵尺寸(CD)降低30%-50%。
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