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步進式曝光機原理
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wafer aligner原理、樂華科技好嗎
可以分為兩種,分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner,曝光時模板緊貼晶圓;以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機(英語:stepper)或掃描式曝光 .
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「步進式曝光機原理」
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