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北美智權報第93期：相位移光罩技術與半導體微影製程

眾所周知，半導體微影製程的關鍵技術在於步進機的光學鏡片組合，光源 ... 度和更高的對比度，同時也可在近接式曝光製程中增加光罩和晶圓之間的距離。

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