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晶圓製程中的乾蝕刻與濕蝕刻是什麼? - 品化科技股份有限公司

在步進機上，光源經過若干透鏡系，並透過大小為實際圖型4~5倍的光罩(稱為reticle)之後，將圖型縮小並投影於晶圓板上。完成一枚晶片曝光作業後，移動台架， ...

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