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步進式曝光機原理
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193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片? - 電子技術設計
光刻膠曝光後的溶解性依賴於曝光量,這大家都知道,但是這個依賴很不線性。 ... 從原理上來講,Mask上凡是小於光照波長的高頻成分,都成為了高頻 ...
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