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步進式曝光機原理
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半導體製程類設備- 瀚柏科技prohanns
曝光步進機/Stepper ... 曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版,並搭配顯影劑使用,去除晶圓表面的光阻,以形成積體電路圖案。該設備應用於12吋的晶圓 ...
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