以65. 奈米製程為例,步進微影製程粗對位落在±100 奈. 米(nm)範圍內,繼由光學細對位縮小至3 nm 以下. 範圍內。本文就晶圓接合機和曝光設備對位原理. 作介紹,探討精密對位 ...
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