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步进式重复曝光光刻机的掩模板工件台及曝光工艺

本发明属于半导体制造技术领域，首先提出了一种步进式重复曝光光刻机的掩模板工件台，包括用于放置掩模板的固定平台，所述掩模板上具有实际图形区域。

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