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選擇適當表面分析儀器抓出製程汙染缺陷

大於10um汙染物，建議使用X光電子能譜儀(XPS/ESCA)的儀器進行成分與半定量分析；當汙染物小於10um時，建議選擇歐傑電子能譜儀(AES)來進行。

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