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EUV极紫外光刻技术- 吴建明wujianming - 博客园

对光子波长/能量的高吸光度和选择性(E=h*f)：目标是更低的光子剂量(mJ/cm**2) 和更大的曝光宽容度. EUV光刻机. EUV光刻机已经成为芯片制造的支柱，台积电 ...

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