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極紫外光微影製程
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http://www.compotech.com.tw/a/press/2015/0423/28872.html
ASML獲美國客戶大單15台EUV極紫外光系統待出貨
目前,先進製程使用的主流微影技術為浸潤式(immersion)微影,其光源波長為193奈米,而EUV或稱為極紫外光的波長則是13.5奈米。EUV因此能用一次曝光,就轉印 ...
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「極紫外光微影製程」
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