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極紫外光微影製程
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應用材料公司以嶄新的光罩蝕刻系統解決極紫外光微影的重大障礙
這套全新的Tetra 極紫外光系統能以奈米級精確度與一流的缺陷效能,進行蝕刻新的深紫外光光罩,一舉克服過去極難解決的重大挑戰,掃除使用極紫外光微影 ...
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