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極紫外光微影製程
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euv機臺
極紫外光 是半導體微影製程中最新進的機臺,臺積電表示,EUV機臺耗電量是深紫外光微影機臺的10倍以上,透過大數據分析手法及機臺改善,去年. 極紫外光是半導體微影製程 ...
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