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極紫外光微影製程
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改善EUV製程隨機性誤差Fractilia助晶圓廠提高良率| 產經 - 中央社
半導體製造量測方案供應商Fractilia表示,隨機性誤差的量測解決方案可協助半導體晶圓廠在極紫外光(EUV)微影製程中提高良率,避免損失數十億美元。
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