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美国造出全球最高分辨率的光刻机精度远超EUV光刻机

Zyvex Labs称ZyvexLitho1系统拥有专有的蠕变和滞后位置校正算法，支持无失真成像和原子级精确的尖端定位，以实现前所未有的光刻精度。

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