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附表第一批至第八批公私場所應申請設置

一、同一公私場所，設有下列燃. 燒設施之一者： ... 石蠟、石油醚、有機溶劑或其他 ... 有下列製. 造程序之. 行業. 第二類已設立固. 定污染源. 半導體製造程序.

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