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曝後烤目的
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SU-8 光阻在矽晶圓基材上製作微流道面板之研究
11.硬烤:以溫度50℃與120℃來進行硬烤,使光阻能堅固的依附在晶片的表面上。 參、結果與討論. 微影製程之成型參數很多,每一程序的成型參數皆會影響 ...
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