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智慧型微冷卻系統之感測與驅動技術開發(I)

經由曝光後的. SU-8 光阻在顯影前，必須再次經過曝後烤. (post-exposure-baking; PEB)程序；曝後烤的主要. 目的乃藉由升溫加速曝光光阻的鏈結，溫度為.

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