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極紫外光微影—延續摩爾定律的重要技術

... 機。 第一代量產型EUV機台的曝光波長為13.5 nm，NA在0.25～0.35之間，採用6個鏡面投影光學元件[9]。圖4和圖5為ASML所製造的EUV系統示意圖及最新世代所能達到的解析度[7][ ...

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