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半導體器件用光掩模 - 凸版印刷
然而與採用以往的DUV光的技術不同,由於EUV無法實現利用光透過玻璃透鏡的折射現象聚光,因此晶圓曝光機和掩膜全部為反射光學系。 凸版印刷建造了試生產線,為了奠定 ...
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