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晶圓的處理－ 微影成像與蝕刻

（photolithography）步驟. 塗敷光阻劑. 溶解度會隨曝光程度改變. 曝光. 改變光阻劑溶解度. 顯影. 去除溶解度較高的光阻劑. 蝕刻. 移除未被光阻劑覆蓋的. 晶圓外膜.

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