曝光機 主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版,並搭配顯影劑使用,去除晶圓表面的光阻,以形成積體電路圖案。 PDF 檔案. VLSI 概論1.1 緒論在矽晶圓上製作超大型積 ...
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