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半導體製程類設備- 瀚柏科技prohanns

曝光機 主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。該設備應用於12吋的晶圓曝光使用。

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