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曝光機光源
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手動光刻機 - Quatek
200型掩模對準器具有可靠的OAI紫外線光源,可在近紫外或深紫外線下使用功率範圍為200至2000瓦的燈提供准直紫外光。雙感測器光學反饋回路與恒定強度控制器相連,以提供曝光 ...
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