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卡位EUV 供應鏈- EUV pellicle 專利佈局分析 - Semi.org

光機的解析度；而因為EUV 曝光機光源極易被外界環境所吸收的特性，曝光機內的鏡片. 組由一系列的透鏡組改為一系列的反射鏡組構成，連帶使光罩以及pellicle 必須隨之改.

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