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情報ASML首席技術長認為當前曝光技術可能已經快要走到盡頭

High-NA EUV曝光機會比現有的EUV曝光機更為耗電，從1.5兆瓦增加到2兆瓦。主要原因是因為光源，High-NA使用了相同的光源需要額外0.5兆瓦，ASML還使用水冷銅 ...

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