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曝光機光源
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193nm波長光刻機如何刻出28nm線寬晶片? - 電子技術設計
光刻膠曝光後的溶解性依賴於曝光量,這大家都知道,但是這個依賴很不線性。 ... Illumination,讓光學系統的主光軸和照明方向不一樣,光源斜著打。
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