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曝光機光刻機
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什么是步进扫描光刻机?国产光刻机与ASML差距多大? - 网易
对于45nm及以下更高成像分辨率,采用ArF干法曝光方式的光刻机已经无法满足要求了,因此在原来的ArF光刻技术上开发了浸没式光刻技术,也就是将镜头方下表面 ...
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