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ASML首席技術官：明年交付首台High-NA EUV曝光機 - 聯合報

驅動之家報導，High NA EUV 預計在明年開始出樣機給客戶，這一次Intel 先下手為強，搶購了首批的High NA EUV 光刻機，外傳單價超過3.4 億美元（新 ...

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