你即將離開本站

並前往https://www.pdmc.com.tw/service/

業務與服務 - 台灣美日先進光罩

原理 上，其過程和傳統相片的製造過程非常相似，以光罩當作底片，在黃光機台的曝光下，將光罩上面刻印的設計圖樣，反覆曝光在晶圓上。IC製造的步驟為：薄膜→光阻→顯影→ ...

確定！ 回上一頁

查詢 「晶圓 原理」的人也找了：

  1. 矽晶圓原料產地
    2.
  2. 台積電晶圓尺寸
    3.
  3. 晶圓代工
    4.
  4. 晶圓製程流程圖
    5.
  5. 晶圓 製造公司
    6.
  6. 矽晶圓天然砂
    7.
  7. 晶圓尺寸演進
    8.
  8. 晶圓用途
    9.