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科林研發推出全球首款晶邊沉積解決方案以提升晶片良率

科林研發發表Coronus DX ，僅需一個步驟即可在晶圓邊緣的兩側沉積一層專有的保護膜，有助於防止在先進半導體製程中經常發生的缺陷和損壞。圖/科林研發 ...

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