你即將離開本站

並前往http://eportfolio.lib.ksu.edu.tw/~4970J053/wiki/index.php/%E5%8D%8A%E5%B0%8E%E9%AB%94%E8%A3%BD%E7%A8%8B%E8%88%87%E5%8E%9F%E7%90%86

半導體製程與原理 - E-Portfolio

原料晶圓在投入製程前，本身表面塗有2μm厚的AI2O3，與甘油混合溶液保護 ... 製程中由氧化至清洗階段包括光罩、蝕刻、離子植入及不純物擴散等，也都需 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「晶圓清洗製程」的人也找了：

  1. 半導體晶圓清洗機
    2.
  2. 晶圓清洗代工
    3.
  3. rca clean清洗流程和功用
    4.
  4. 半導體清洗廠
    5.
  5. 物理濕式清潔法
    6.
  6. 半導體清洗劑
    7.
  7. sc1 clean原理
    8.
  8. rca clean製程
    9.