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晶圓清洗製程
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微製程概論(IC 及TFT/LCD) - 遠東科技大學
SC-1溶液清洗具有兩種去除塵粒污染的機. 制。第一、溶液的雙氧水可將矽晶圓氧化並. 生成二氧化矽氧化層,由於溶液中含有氨. 水 ...
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