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Gas-Liquid Dissolving Technology

當前半導體廠在製程使用各種不同用途的機能水: 包括. 臭氧水用於晶圓表面汙染物的清洗；; 碳酸水溶液(CO2水溶液)用於晶圓表面清洗; 氫水提高DIW的還原性減少晶圓片氧化 ...

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