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半導體晶圓表面清洗技術發展- 元照出版, 月旦知識庫

目前在半導體廠清除晶圓表面微粒、金屬與有機物仍以濕式化㈻清洗法為大㊪，不可 ... 符合下世代晶圓製程整合（cluster tool）的概念，因此乾式清洗技術正被積極發展以 ...

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