光阻塗佈於矽晶圓上,並利用光罩1 進行黃光微影,得到所需之圖案。 2. 光罩2:為應用於ICP-RIE 製程與光阻犧牲層製程,皆是使用SU-8 光阻. 當作夾持器結構,其圖案為透 ...
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