單晶基板. ⟨基本規格⟩. 不純度: Nitrogen<10ppm. 晶向: (100) 偏約0~ 3 degree. 拋光面粗度: 約Ra<50nm, 精拋Ra<10nm. 尺寸: 1x1 to 10x10mm, 厚度0.5-2mm.
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